光馳半導體技術(shù)(上海)有限公司由日本光馳集團(股票代碼:6235.T(東京證券交易所))名下的光馳科技(上海)有限公司投資設立,是一家以ALD(原子層沉積鍍膜)與ETCHING(刻蝕)技術(shù)為依托,通過(guò)持續的技術(shù)創(chuàng )新和市場(chǎng)開(kāi)拓,在光學(xué)鏡頭、微顯示、化合物半導體、晶圓級光學(xué)、圖像傳感器等半導體或泛半導體領(lǐng)域實(shí)現鍍膜技術(shù)應用與設備銷(xiāo)售的公司。公司成立于2021年9月23日,注冊資金1.2億元。同時(shí)在光馳集團所屬日本、芬蘭據點(diǎn)分別進(jìn)行材料應用,核心器件的研發(fā),人才梯隊的培養。
臭氣成分 | 臭氣入口指標 | 臭氣排口指標 | 排氣筒高度 |
H2S | ≤100mg/m3 | ≤0.6kg/h | 15m |
NH3 | ≤40mg/m3 | ≤0.6kg/h | |
甲硫醚 | ≤50mg/m3 | ≤0.6kg/h | |
臭氣 | ≤3000 | ≤800 |